形势严峻:芯片制造材料中,国产化率不足15%,
发布时间:2025-10-12 09:37
制作一颗芯片的过程中,需要上百道设备、道工序、一千二百、上百种材料。但很多人只关注设备,认为只要我们拿到光刻机、刻蚀机、刻蚀,让这些设备达到7nm及以下,那么我们的芯片产业就没有顾虑,可以生产7nm、5nm、3nm……等芯片了。事实上,芯片行业是世界上最复杂的行业。解决了设备和技术之后,我们还要解决各种材料。如果没有材料,就相当于做饭。如果你有高压锅,你也会做饭,但不会做饭。怎样才能做米饭呢?制造芯片需要大量材料。如果按金额来看,排名前五的类别分别是硅片(33%)、特种气体(14%)、光材料(13%)、光刻胶材料(7%)和CMP抛光材料(7%)。当然这里面还有很多细分,比如特种气体es,这不仅仅是一种类型。在制作芯片的过程中,会用到大约50种不同类型的特殊气体,比如CF4、CHF3、SF6、CI2、BCI3、HBR等。废话不多说,我给大家上个图,你们应该看看是怎么回事。是目前芯片基础制造材料中价值较高的产品,属于前三品牌(CR3),国产化水平较高。可以看到,几乎所有材质中,排名前三的品牌都占有70%以上的部分。所有材料中,前三名的品牌都不是国产品牌,全部是国外品牌。国产化率通常低至15%,即使采用国产替代材料,也大多集中在中低沸点,高端材料以进口为主。可以说,我们不应该只关注光刻机等基础设备。芯片材料也存在严重问题。我们要努力提高国产化率,确保安全供应链。但在材料方面,研发并不容易。一方面,全球市场市场规模并不大,高投入研发并不现实,因为回报率太低。但细分技术壁垒较高,需要较高的研发能力。投资小,转型、开发不可能成功。因此,提高芯片国产化率实际上是一个大问题。虽然困难,但我们必须要做。返回搜狐查看更多
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